<tr id="ui5st"><output id="ui5st"><thead id="ui5st"></thead></output></tr>

  • <tr id="ui5st"></tr>

    <big id="ui5st"><li id="ui5st"><object id="ui5st"></object></li></big>
    <optgroup id="ui5st"></optgroup>
  • <legend id="ui5st"></legend><big id="ui5st"><dl id="ui5st"><object id="ui5st"></object></dl></big>
    <legend id="ui5st"><sup id="ui5st"></sup></legend>
  • <ol id="ui5st"></ol>

    產品名稱:二氧化硅溶膠研磨分散機

    更新時間:2022-05-06

    產品型號:XMD2000

    產品報價:

    產品特點:二氧化硅溶膠研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

    XMD2000二氧化硅溶膠研磨分散機的詳細資料:

    品牌SID/希德產地進口
    產品新舊全新結構類型立式
    產品大小中型自動化程度全自動
    分散機類型實驗室分散機,調速分散機,高速分散機,剪切分散機,乳化分散機,升降分散機,防爆分散機速度類別有級變速(多速),單速,雙速,無級變速
    物料類型液-液,干粉,膏體,固-液,固體顆粒變速方式減速器變速,變頻變速,變速帶變速,電磁變速
    速度范圍400rpm以下,400-1200rpm,200rpm以上分散盤型式平盤鋸齒式,三義槳式,碟式
    升降形式液壓,機械每次處理量1000
    分散輪直徑55mm

    二氧化硅溶膠研磨分散機

    硅溶膠為納米級的二氧化硅顆粒在水中或溶劑中的分散液。由于硅溶膠中的SiO2含有大量的水及羥基,故硅溶膠也可以表述為2O。制備硅溶膠有不同的途徑。 常用的方法有離子交換法、硅粉一步水解法、硅烷水解法等。 硅溶膠屬膠體溶液,無臭、 。硅溶膠為納米級的二氧化硅顆粒在水中或溶劑中的分散液。由于硅溶膠中的SiO2含有大量的水及羥基,故硅溶膠也可以表述為2O。

    硅溶膠無機高分子涂料是近幾年發展起來的。制備該涂料的關鍵技術是

    硅溶膠

    用特殊的方法除去水玻璃中水溶性的鈉離子。一般可以用離子交換、酸中和、水分解、電滲析等方法來實現,以生成一種極細的二氧化硅超微粒子膠狀水溶液,粒徑為580nm(一般乳液顆粒為800-1000nm)其中Si2O含量20%-30%,Na2O含量0.3%¥,氧化硅和氧化鈉的比例在40%以上。以這種硅溶液/膠為基料,配合顏料和各種助劑而制成硅溶膠無機高分子涂料。硅溶液在失去水分時,單體硅酸逐漸聚合成高聚硅膠,隨水分的蒸發,膠體分子增大,最后形成-SIO-O-SIO-涂膜:IO-SI-OH+HO-SI-OH因NA2O在硅溶膠中的含量低,硅溶膠具有一定量成膜溶解的特性,其耐水性、耐熱性能明顯 有機涂料。涂膜致密且較硬,不產生靜電,空氣中各種塵埃難粘附。在建筑涂料中,它的抗污染能力是較強的。

    細微的顆粒,對基層有較強的滲透力,能通過毛細管滲透到基層內部,并能與混凝土基層中的氫氧化鈣反應生成硅酸鈣,使涂料具有較強的粘結力。

    但硅溶膠在成膜過程中體積收縮較大,涂膜易開裂。硅溶膠能與丙烯酸酯、醋酸乙烯等乳液任意相溶。兩者的特性相互補充,可以配制出性能優良的有機、無機復合涂料。

    一種高抗凍性能硅溶膠的制備方法,是以硅粉水解法制得的硅溶膠產品為原料制得,所述原料中二氧化硅質量分數為17 — 31%,氧化鈉質量分數為0.25-0.45%,pH值為8.5-9.5,膠粒粒徑為8-20納米。

    步驟如下:

    (1)將 型陽離子交換樹脂裝柱,按下述方法處理:先用去離子水清洗離子交換樹脂3-5次;再用4-5wt%的HCl溶液浸泡2-4小時,然后用去離子水淋洗至出水呈中性;改用4-5wt% NaOH溶液繼續浸泡2_4小時,并用去離子水洗至出水呈中性; 重復上述方法處理2-3次,每次HCl溶液和NaOH溶液的體積用量均為樹脂體積的2_3倍;最后,用4-5wt%的HCl溶液浸泡樹脂2-4小時,放盡HCl溶液后,用去離子水淋洗至出水呈中性。

    (2)將濃度為6-8wt%的氯化銨溶液注入處理好的離子交換樹脂柱內,浸泡1-2小時后放盡氯化銨溶液,再用去離子水淋洗至出水pH4.5-5.5。

    (3)將原料注入步驟(2)處理好的離子交換樹脂柱內,使原料離子轉型反應0.5-5h,得含有銨鹽的硅溶膠;所述的含有銨鹽的硅溶膠PH2-4 。

    (4)將步驟(3)得到的含有銨鹽的硅溶膠攪拌狀態下加入氫氧化鋰懸浮溶液,所述的氫氧化鋰的加入量為含有銨鹽的硅溶膠質量的0.04-0.1%,所述氫氧化鋰懸浮溶液的濃度為3-5wt%,調整pH值在8.5-9.5之間,再攪拌10-20分鐘,即得高抗凍性能硅溶膠。

    XMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

    第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

    以下為型號表供參考:

    型號

    標準流量

    L/H

    輸出轉速

    rpm

    標準線速度

    m/s

    馬達功率

    KW

    進口尺寸

    出口尺寸

    XMD2000/4

    400

    18000

    44

    4

    DN25

    DN15

    XMD2000/5

    1500

    10500

    44

    11

    DN40

    DN32

    XMD2000/10

    4000

    7200

    44

    22

    DN80

    DN65

    XMD2000/20

    10000

    4900

    44

    45

    DN80

    DN65

    XMD2000/30

    20000

    2850

    44

    90

    DN150

    DN125

    XMD2000/50

    60000

    1100

    44

    160

    DN200

    DN150

    二氧化硅溶膠研磨分散機

     如果你對XMD2000二氧化硅溶膠研磨分散機感興趣,想了解更詳細的產品信息,填寫下表直接與廠家聯系:

    留言框

    • 產品:

    • 您的單位:

    • 您的姓名:

    • 聯系電話:

    • 常用郵箱:

    • 省份:

    • 詳細地址:

    • 補充說明:

    • 驗證碼:

      請輸入計算結果(填寫阿拉伯數字),如:三加四=7
    在線客服